硅胶保护膜的制备工艺pdf

  

  本发明涉及保护膜技术领域，具体是一种硅胶保护膜的制备工艺，具体为：步骤S1，预先准备好基膜；步骤S2，将硅胶树脂/硅橡胶、改性填料，固化剂、增粘剂、催化剂、交联剂进行混合，制备有机硅胶粘剂；步骤S3，将紫外线吸收剂、环氧树脂、乙酸乙酯、聚碳酸酯胶黏剂、催化剂、分散剂进行混合，制备防紫外线，通过涂布机将有机硅胶粘剂在基膜的一面进行涂布，固化后，获得硅胶层；步骤S5，通过涂布机将防紫外线粘剂在硅胶层表明上进行涂布，固化后，获得防紫外线，在防紫外线层表面复合保护层；步骤S7，在

  A保护膜。本发明所制保护膜可防紫外线缓硅胶老化脱胶，延长保护膜寿命，且可快速疏

  步骤S3，将环氧树脂、乙酸乙酯与辅料B进行混合，制备防紫外线，通过涂布机将有机硅胶粘剂在基膜的一面进行涂布，经第一阶段固化后，获得

  步骤S5，通过涂布机将防紫外线粘剂在硅胶层表明上进行涂布，经第二阶段固化后，获得

  2.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述辅料A包括改

  3.根据权利要求2所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述辅料B包括催

  化剂、分散剂、平流剂与紫外线所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述保护层为耐磨

  5.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述基膜的另一面

  6.根据权利要求2所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述辅料A中的固

  7.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述紫外线吸收剂

  8.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述超疏水层采用

  9.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述步骤S4中的第

  10.根据权利要求1所述的一种硅胶保护膜的制备工艺，其特征是，所述步骤S5中的

  [0002]硅胶保护膜用于覆盖在物体表面使之免受损伤和污染，如：显示屏、玻璃等，一般

  的硅胶保护膜易受紫外线影响，长期在日光和荧光下，因紫外线的作用，有可能会出现老化脱

  胶，使外观及机械性能变坏，影响用户的使用；并且一般的硅胶保护膜不具备疏水性和防刮

  性，容易在保护膜表面残留水渍和留下划痕，如：电子设备的显示屏，划痕多或残留水渍，容

  [0004]未解决以上问题，本发明提供的硅胶保护膜的制备工艺，设有防紫外线层，可以

  步骤S3，将环氧树脂、乙酸乙酯与辅料B进行混合，制备防紫外线，通过涂布机将有机硅胶粘剂在基膜的一面进行涂布，经第一阶段固化后，

  步骤S5，通过涂布机将防紫外线粘剂在硅胶层表明上进行涂布，经第二阶段固化后，

  [0006]可选的，在本发明一实施例中，所述辅料A包括改性填料，固化剂、增粘剂、平流剂

  [0007]可选的，在本发明一实施例中，所述辅料B包括催化剂、分散剂、固化剂、平流剂与

  紫外线]可选的，在本发明一实施例中，所述保护层为耐磨层，所述耐磨层为高密度聚乙烯

  [0010]可选的，在本发明一实施例中，所述辅料A中的固化剂为甲基三乙酰氧基硅烷，催

  [0011]可选的，在本发明一实施例中，所述紫外线吸收剂为单羟基苯基三嗪化合物、三羟

  [0013]可选的，在本发明一实施例中，所述步骤S4中的第一阶段固化具体为：在100℃‑

  [0014]可选的，在本发明一实施例中，所述步骤S5中的第二阶段固化具体为：在紫外线]本发明有益效果

  层间结构轻薄的情况下，仍具备良好的防紫外线性能，使硅胶层不受紫外线照射，提高了硅

  胶的常规使用的寿命；保护膜还设有耐磨层与超疏水层，可以将接触的水、油等快速疏离，一方面

  提供了干净的表面，保持显示屏的良好显示效果，另一方面将水油快速疏离诸如显示屏等

  物体表面，能够尽可能的防止水珠流入显示屏内部的可能性，保护内部电子电路；耐磨层可以为保护

  膜提供更高的防刮性，避免保护膜存在过多划痕，使用户观看屏幕时，模糊不清。

  [0016]为了更清楚地说明本发明实施例或现存技术中的技术方案，下面将对实施例或现

  [0018]为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下面结合附图对本发明

  的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发

  明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人能在不

  违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

  [0019]在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、

  “厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时

  针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或

  位置关系，仅是为便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必

  须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

  [0020]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性

  或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者

  隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三

  [0021]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等

  术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连

  接，也可以是电连接；可以是直接相连，也能够最终靠中间媒介间接相连，可以是两个元件内

  部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员

  [0022]在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以

  是第一和第二特征非间接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在

  第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示

  第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第

  一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

  [0023]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另

  一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以

  是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平

  的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述仅仅是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施

  [0024]为更进一步阐述本发明为实现预定发明目的所采取的技术方法及功效，以下结合

  附图及较佳实施例，对依据本发明的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。

  [0025]为提高现有硅胶保护膜的常规使用的寿命并且使其具备更多特性，以提高使用者真实的体验感，

  需要一种具备更多特性且常规使用的寿命更长的硅胶保护膜，为此设计了该硅胶保护膜的制备工

  在本实施例中，基膜5选择PET膜为基膜5，对基膜5表明上进行清洁，防止表面沾染灰

  尘杂质，影响成品的质量，基膜5的清洗能够最终靠喷淋清洗的方式将表面清洗，清洗后，再对

  [0026]步骤S2，将硅胶树脂/硅橡胶与辅料A进行混合，制备有机硅胶粘剂；

  步骤S3，将环氧树脂、乙酸乙酯与辅料B进行混合，制备防紫外线，通过涂布机将有机硅胶粘剂在基膜5的一面进行涂布，经第一阶段固化

  步骤S7，在保护层表面涂覆超疏水层1，经第三阶段固化后，获得硅胶保护膜。

  [0027]在本实施例中，辅料A包括改性填料，固化剂、增粘剂、平流剂与催化剂，用于制备

  有机硅胶粘剂的各成分比例具体为：硅胶树脂为40%‑60%，改性填料为20%‑40%，固化剂为

  [0028]在本实施例中，辅料B包括催化剂、分散剂、平流剂、固化剂、与紫外线吸收剂，用于

  制备防紫外线粘剂的各成分比例为：环氧树脂为30%‑50%，乙酸乙酯为10%‑30%，紫外线%‑5%，固化剂为1%‑5%。

  [0030]基膜5的另一面还设有离型层6，在本实施例中，离型层6采用非硅离型剂涂布而

  [0031]辅料A中的固化剂为甲基三乙酰氧基硅烷，催化剂为丙酮酸，增粘剂为水性增粘树

  [0032]紫外线吸收剂为单羟基苯基三嗪化合物、三羟基苯基三嗪化合物与溶剂的混合

  物，其中，溶剂的比重为50%‑60%，单羟基苯基三嗪化合物的比重为1%‑1.5%，三羟基苯基三

  [0034]步骤S4中的第一阶段固化具体为：在100℃‑180℃温度下进行干燥1h‑3h。

  [0035]步骤S5中的第二阶段固化具体为：在紫外线]紫外线灯功率较大的情况下，可根据固化情况，减少照射时间。

  [0037]本发明的工艺所制的硅胶保护膜为多层复合膜，保护膜的层间结构由上至下依次

  用于汽车玻璃、电子屏幕等物体，一方面降低紫外线对人的伤害，另一方面保护硅胶层4，避

  间结构，超疏水层1，可以将保护膜上的水快速疏离，避免影响视线或显示效果。

  [0038]在本实施例中，硅胶保护膜的结构与实施例1中的结构与工艺基本相同，离型层6

  与基膜5之间还涂布有抗静电剂，硅胶层4与防紫外线之间同样涂布有抗静电剂，以达到

  [0039]术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、

  “内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为便于描述

  本发明的简化描述，而不是指示或暗指所指的装置或元件一定要有特定的方位、为特定的

  [0040]以上，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本

  发明已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离

  本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的

  等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所

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