证券之星音讯,依据天眼查APP多个方面数据显现世华科技(688093)新取得一项发明专利授权,专利名为“一种高精度图形化涂布有机硅保护膜及其制备办法”,专利请求号为CN7.9,授权日为2024年12月6日。
专利摘要:本发明公开了一种高精度图形化涂布有机硅保护膜及其制备办法,其包含有机硅压敏胶层、承印基材,所述有机硅压敏胶层图形化印刷到承印基材上,所述承印基材分为相连的对应屏幕部分和提手部分;所述有机硅压敏胶层掩盖所述承印基材的对应屏幕部分,所述承印基材的提手部分为无胶区;所述有机硅压敏胶层的边际区域直线mm。经过一步工艺构建图形化的有胶/无胶区域,省去双面胶涂布及复合工艺制程。一起,本请求供给了承印基材为纸张基材的技能计划,与现存技能比较,不会再运用塑化的基材和无胶支撑薄膜,完成了有机硅保护膜的完全去塑化。
本年以来世华科技新取得专利授权14个,较去年同期增加了40%。结合公司2024年中报财务数据,本年上半年公司在研制方面投入了2356.76万元,同比增44.27%。
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